杰盛达纳米氧化铝抛光液——硬脆材料精密加工的理想选择

深圳市杰盛达晶体材料有限公司提供的氧化铝抛光液，是一款专为光学电子行业硬脆材料加工而研发的高性能水性悬浮液。产品以高纯度α-氧化铝为磨料，通过先进的纳米分散工艺配制而成，适用于蓝宝石、光学玻璃、液晶玻璃及半导体材料的精密研磨与抛光。

产品核心特点

精密的粒径控制：提供从粗抛到精抛的多粒径选择。以T-9801粗抛液为例，中心粒径稳定在1.9±0.2μm，确保高效的材料去除率。针对精抛场景，可提供粒径更细（可达纳米级）的产品，实现亚纳米级表面光洁度。

卓越的悬浮稳定性：采用特殊工艺处理，磨料在水中均匀悬浮，不易沉降板结，保证了抛光过程的稳定性和批次一致性。

强碱性体系与高去除率：原液pH值呈强碱性（13-14），配合专用的使用工艺（如补充KOH维持pH>13），能实现高效的化学机械协同抛光。

易清洗、环保：水性配方，不含重金属等有害物质。抛光后工件表面无残留，易于清洗，不影响后续制程。

主要应用领域

蓝宝石加工：专用于蓝宝石衬底、窗口片、手表表盘的粗抛与精抛。

光学与光电：适用于光学平面玻璃、液晶玻璃、激光晶体（YAG）等精密光学元件的抛光。

半导体材料：可用于碳化硅（SiC）、硅片、砷化镓等晶圆的CMP粗抛或精抛制程。

技术参数（参考）

定制服务：我们可根据您的具体工艺需求，提供不同粒径、pH值及固含量的定制产品。